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  • 槽式湿法设备

    槽式湿法设备的工艺应用 去胶及去胶后清洗 炉管及长膜前清洗 氧化层/氮化硅蚀刻 铜/钛金属蚀刻 ULTRON B2XX/B3XX 设备平台: ULTRON B2/3XX 晶圆尺寸: 200mm/300mm, 相关技术: 全自动槽式湿法清洗 适用制程: 晶体管, 连接体, 图形化, 先进内存, 封装

  • 单片式湿法设备

    单片式湿法设备的工艺应用 去胶及去胶后清洗 炉管及长膜前清洗 氧化层/氮化硅蚀刻 铜/钛金属蚀刻 聚合物去除 擦片清洗 化学机械研磨后清洗 ULTRON S2XX/S3XX 设备平台: ULTRON S2/3XX 晶圆尺寸: 200mm/300mm, 相关技术: 全自动单片式湿法清洗 适用制程: 晶体管, 连接体, 图形化, 先进内存, 封装

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