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特殊(低沸点)气体供应系统:

TMA: PNC的TMA供应系统广泛应用于多机台晶圆背钝化工艺
POCl3:应用于扩散沉积
DEZn: P型掺杂源,运用于MOCVD生长
TEOS: 运用于LPCVD技术,以实现二氧化硅在SiC晶片表面的淀积。
DCS/ TCS:应用于化学气相沉积

多气体高精度混配设备。